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以单晶硅(111)为衬底,以等离子体增强化学气相沉积技术制备的非晶硅薄膜为前驱物,采用YAG激光晶化技术实现从非晶硅薄膜到纳米晶硅薄膜的相变过程.采用X射线衍射仪和原子力显微镜对YAG激光晶化薄膜进行了表征与分析.结果表明:薄膜的晶粒尺寸在纳米级；随着激光脉冲频率的增加,晶粒尺寸先变大后变小,其最佳结晶频率区间为10～12 Hz.