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对当前的第三代半导体材料的基本特性及应用领域进行研究,报告了Si C和Ga N材料的应用现状和发展趋势,并对其制造工艺进行了简要阐述。
第三代半导体材料应用及制造工艺概况
【摘 要】
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对当前的第三代半导体材料的基本特性及应用领域进行研究,报告了Si C和Ga N材料的应用现状和发展趋势,并对其制造工艺进行了简要阐述。
【机 构】
：
中国电子科技集团公司第四十五研究所
【出 处】
：
电子工业专用设备
【发表日期】
：
2016年01期
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