类金刚石磁盘保护膜的性能、应用与制备

来源 :真空科学与技术学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：jiangliang87

【摘要】

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类金刚石膜在磁盘和读写磁头之上形成一层关键的保护膜.磁存储密度的飞速发展可以使存储密度上限达到1万亿字节/英寸2.这要求读写磁头距离磁盘更近,即需要一层仅1 nm～2 nm厚的

【作者】

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丁万昱高鹏邓新绿董闯徐军

【机构】

：

三束材料表面改性国家重点实验室

【出处】

：

真空科学与技术学报

【发表日期】

：

2005年1期

【关键词】

：

非晶碳膜连续类金刚石膜原子类金刚石薄膜上限磁存储等离子体增强化学气相沉积超薄磁头 Diamond-like carbon(DLC) Magne

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类金刚石膜在磁盘和读写磁头之上形成一层关键的保护膜.磁存储密度的飞速发展可以使存储密度上限达到1万亿字节/英寸2.这要求读写磁头距离磁盘更近,即需要一层仅1 nm～2 nm厚的类金刚石薄膜.四面体结构的非晶碳膜能够满足磁存储技术的要求,即形成原子尺度平滑、连续、致密,只有几个原子层厚的碳膜.磁过滤阴极弧方法、等离子体增强化学气相沉积方法可用来制备符合要求的超薄碳膜.

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