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采用非平衡磁控溅射沉积技术制备MoS2-Ti复合薄膜，研究了沉积压力对薄膜的结构和性能的影响。利用XRF、轮廓仪和XRD分析测试薄膜的成分、厚度和晶相结构，用CSEM薄膜综合性能测试仪测试薄膜的硬度和与基底间的附着力，用球一盘摩擦试验机和真空环模系统评价薄膜的真空摩擦磨损性能。结果表明：降低沉积压力使溅射粒子的平均自由程变大，薄膜沉积过程中再溅射作用加强，对薄膜的结构和性能产生较大的影响。沉积压力升高，薄膜中S和Mo原子比和Ti质量分数随之增大，变化范围分别为1．50～1．77和5．8％～8．1％，薄膜沉