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在国产抛光机上改善硅抛光片TTV值的工艺探索
在国产抛光机上改善硅抛光片TTV值的工艺探索
来源 :四川有色金属 | 被引量 : 0次 | 上传用户:liyaxing
【摘 要】
:
本文介绍了用国产有蜡抛光机生产加工抛光片时,对改善硅片TTV值的工艺探索,并指出影响硅抛光片TTV值和TIR值的重要因素-抛光片载体,对其进行经常性质量检验与修正的必要性。
【作 者】
:
冯地直
【机 构】
:
峨嵋半导体材料厂、所
【出 处】
:
四川有色金属
【发表日期】
:
1998年4期
【关键词】
:
硅抛光片
TTV值
载体
抛光机
集成电路
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本文介绍了用国产有蜡抛光机生产加工抛光片时,对改善硅片TTV值的工艺探索,并指出影响硅抛光片TTV值和TIR值的重要因素-抛光片载体,对其进行经常性质量检验与修正的必要性。
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