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采用一种新方法,用脉冲CO2激光器获得了掺氢非晶硅薄膜。描述了我们的实验。给出了生长速率与有关实验参数的关系和合适的工作条件;测量和分析了这种薄膜的某些性质。
激光等离子体化学气相沉积掺氢非晶硅薄膜 —— 一种新的LCVD方法
【摘 要】
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采用一种新方法,用脉冲CO2激光器获得了掺氢非晶硅薄膜。描述了我们的实验。给出了生长速率与有关实验参数的关系和合适的工作条件;测量和分析了这种薄膜的某些性质。
【机 构】
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中国科学院物理研究所
【出 处】
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中国激光
【发表日期】
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1987年14期
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