【摘 要】
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刻蚀衍射光栅作为波分复用/解复用器件,有望在光通信系统中得到广泛应用。在基于顶层硅厚度为220 nm的绝缘体上硅材料上设计并制作了一种新型刻蚀衍射光栅,该刻蚀衍射光栅引
【机 构】
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北京信息科技大学光纤传感与系统北京实验室; 中国科学院半导体研究所集成光电子学国家重点实验室; 中国科学院大学材料与光电研究中心;
【基金项目】
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高等学校学科创新引智计划(先进光电子器件与系统学科创新引智基地D17021)
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刻蚀衍射光栅作为波分复用/解复用器件,有望在光通信系统中得到广泛应用。在基于顶层硅厚度为220 nm的绝缘体上硅材料上设计并制作了一种新型刻蚀衍射光栅,该刻蚀衍射光栅引入六角晶格空气孔型光子晶体作为其反射镜。模拟结果显示,相较于传统的阶梯光栅反射镜的刻蚀衍射光栅,光子晶体反射镜的刻蚀衍射光栅在理论上可有效降低器件的制作工艺难度以及插入损耗,同时可以实现器件偏振的保持。随后仅利用一步电子束光刻工艺及一步电感耦合等离子体刻蚀工艺制作了该光子晶体反射镜的刻蚀衍射光栅。测试结果表明:该光子晶体反射镜的刻蚀衍射光栅片上损耗为9.51～11.86 dB,串扰为5.87～8.72 dB,后续可通过优化工艺条件和优化输出波导布局,进一步提高器件的性能。
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