【摘 要】
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采用射频磁控溅射法在玻璃上动态制备高质量的掺铝ZnO(AZO)透明导电膜,研究了动态沉积条件下AZO薄膜的膜厚和电阻率均匀性,以及溅射气压对AZO薄膜结构和光电性能的影响。结果
【机 构】
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中国电子科技集团公司第四十八研究所,湖南红太阳新能源科技有限公司
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采用射频磁控溅射法在玻璃上动态制备高质量的掺铝ZnO(AZO)透明导电膜,研究了动态沉积条件下AZO薄膜的膜厚和电阻率均匀性,以及溅射气压对AZO薄膜结构和光电性能的影响。结果表明:在动态沉积模式下,获得了具有优良膜厚和电阻率均匀性;AZO薄膜在400~800nm波长范围内的平均透过率高于90%;同时随着溅射气压的增加,晶粒尺寸从47.8nm逐渐减小到41.4nm,禁带宽度从3.46eV逐渐降低到3.40eV,电阻率先降低后上升,在0.5Pa时电阻率为最低值1.5×10^-3Ω·cm。
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