【摘 要】
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氟里昂和哈龙等含氯和溴的化合物是导致臭氧层耗损的主要物种, 其替代物的研究已引起普遍关注. 与此同时, 国际社会对于全球气候的变化也愈加关注, 这对今后消耗臭氧层物质(O
【机 构】
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北京大学技术物理系,中国科学院化学研究所
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氟里昂和哈龙等含氯和溴的化合物是导致臭氧层耗损的主要物种, 其替代物的研究已引起普遍关注. 与此同时, 国际社会对于全球气候的变化也愈加关注, 这对今后消耗臭氧层物质(ODSs)替代品的选择提出了更高要求, 即既要满足保护臭氧层的要求, 又要满足防止气候变化的要求. 目前, 在制冷行业中已开始使用的消耗臭氧层物质CFC-12(CF2Cl2)的替代物主要有氢氯氟烃(HCFCs)和氢氟烃(HFCs), 而HCFCs是过渡性替代物, 根据蒙特利尔议定书的规定将于2040年全部被淘汰[1],因此消耗臭氧潜值(OD
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