【摘 要】
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液态源雾化化学沉积(LSMCD)技术自1992年问世以来就引起了各国科学家的广泛关注.目前,已成功制备出了多种铁电薄膜.该文系统的分析了采用LSMCD技术制备PLT铁电薄膜在退火温度
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液态源雾化化学沉积(LSMCD)技术自1992年问世以来就引起了各国科学家的广泛关注.目前,已成功制备出了多种铁电薄膜.该文系统的分析了采用LSMCD技术制备PLT铁电薄膜在退火温度和退火方式的选择对其相结构的影响,在保证PbO不挥发的情况下,退火温度越高,薄膜的结晶越好;采用混合热处理(RCA)制备的薄膜晶粒尺寸较大,形成了连续致密的薄膜,而快速热处理(RTA)虽可以消除焦绿石相,但薄膜晶粒较小.
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