【摘 要】
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利用正交实验设计方法,采用射频磁控溅射法在不锈钢衬底上制备了AlN薄膜,并利用XRD、激光拉曼光谱、荧光光谱等技术对AlN薄膜的结构及发光特性进行了表征。通过实验数据分析,
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利用正交实验设计方法,采用射频磁控溅射法在不锈钢衬底上制备了AlN薄膜,并利用XRD、激光拉曼光谱、荧光光谱等技术对AlN薄膜的结构及发光特性进行了表征。通过实验数据分析,得出如下结论:利用射频磁控溅射法在不锈钢衬底上制备的纤锌矿结构AlN薄膜,在所有参数下,(100)面最易生长;在溅射功率为300~400 W、衬底温度为100~200℃、氮气流量百分比为30%、溅射时间为1 h时,制备出的AlN薄膜结晶状况较好。制备出的AlN薄膜没有明显的拉曼峰,但不锈钢衬底不仅有拉曼峰,而且在紫外区有很强的荧光发射峰
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