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采用直流反应磁控溅射法于不同温度下在Si（111）基底上制备了Ti／TiN多层膜，采用X射线衍射仪和原子力显微镜对膜的物相和表面形貌进行了分析，研究了沉积温度对膜结构及其光学、电学性能的影响。结果表明：不同沉积温度下制备的Ti／TiN多层膜均由钛和TiN相组成，多层膜与单层TiN膜一样，其表面粗糙度随沉积温度的升高而减小，电阻率随沉积温度的升高显著降低；其表面形貌则比单层膜更加致密和均匀；多层膜红外反射率与其电阻率有关，当电阻率减小时，红外反射率增大。