溅射电流相关论文
近年来，Al掺杂的ZnO（ZAO）透明导电氧化物薄膜，以其价格低廉、无毒性、在氢等离子气氛中性质稳定等优势，而受到研究者的广泛关注，已经成为......
采用直流反应磁控溅射法于不同温度下在Si（111）基底上制备了Ti／TiN多层膜，采用X射线衍射仪和原子力显微镜对膜的物相和表面形貌进行了......
研究在磁控溅射工艺中工作压强和溅射时间恒定的情况下,溅射电流的变化对钛膜与基底Gd结合能力的影响。通过拉伸法测量薄膜与基体......
采用DC磁控溅射法，分别在P—Si（111）和玻璃基片上沉积AlN薄膜。利用X射线衍射（XRD）、X射线能谱仪（EDS）、原子力显微镜（AFM）、台阶仪＼紫外／可见......
采用非平衡磁控溅射技术在不锈钢以及单晶硅基体上制备了CrNx薄膜,并利用X射线衍射仪（XRD）、场发射扫描电镜（FESEM）、能量色散X射线能......
采用磁控溅射法在硅基片表面沉积TiN薄膜，研究了溅射气压、氮气流量、氩气流量、溅射电流等溅射参数对TiN薄膜导电性能的影响。实验......
采用磁控溅射法在氧化铝陶瓷基板上制备了Cu薄膜,利用台阶测试仪、XRD以及半导体测试仪对薄膜的厚度、结构及电学特性进行了表征及......
