【摘 要】
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最近宣布的光刻设备就速度、分辨率、对准、光源甚至价格方面都非常接近。SVGL、NIKON、ASML和CANON公司之间设备的主要差别在于SVGL采用了一种带反射折射透镜的光学系统 ,而其它公司则采用折射透镜
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最近宣布的光刻设备就速度、分辨率、对准、光源甚至价格方面都非常接近。SVGL、NIKON、ASML和CANON公司之间设备的主要差别在于SVGL采用了一种带反射折射透镜的光学系统 ,而其它公司则采用折射透镜。问题在于折射透镜是否能够用于 1 5 7nm远紫外设备?
Recently announced lithography equipment is very close in terms of speed, resolution, alignment, light source and even price. The main difference between SVGL, NIKON, ASML and CANON devices is that SVGL uses an optical system with a catadioptric lens, while others use a refractive lens. The question is whether the refractive lens can be used for 157nm far UV equipment?
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