【摘 要】
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以硬质合金作为衬底,分别采用了化学涂层(CVD)和物理化学涂层(PCVD)的技术涂复Ti(C,N)-TiN硬质膜,应用X射线光电子谱分析(XPS)技术,研究涂层表面化学成分、元素化学状态、物相组成及其随深度的变化。涂层表面
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以硬质合金作为衬底,分别采用了化学涂层(CVD)和物理化学涂层(PCVD)的技术涂复Ti(C,N)-TiN硬质膜,应用X射线光电子谱分析(XPS)技术,研究涂层表面化学成分、元素化学状态、物相组成及其随深度的变化。涂层表面由Ti,N,C,O和Co组成;表面物相包括TiN,TiO_x及CoO.随着深度的增加,Ti:N迅速变为1,而TiO_x和CoO含量急剧减少.
Ti (C, N) -TiN hard coatings were coated with cemented carbide as substrate and chemical coatings (CVD) and physical chemical coatings (PCVD) respectively. XPS, Technology, research coating surface chemical composition, elemental chemical state, phase composition and its variation with depth. The coating surface consists of Ti, N, C, O and Co; the surface phase includes TiN, TiOx and CoO. With the increase of depth, Ti: N rapidly becomes 1, while the contents of TiOx and CoO decrease sharply.
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