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首先介绍了集成电路TCAD虚拟工厂系统Tauru Worbench,基于CMOS工艺的特点,在Taurus Workbench环境下进行了深亚微米级N沟器件的核心参数优化,优化结果印证了新的工艺条件对器件特性的改善.
集成化N沟MOS核心参数的Taurus Workbench优化
【摘 要】
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首先介绍了集成电路TCAD虚拟工厂系统Tauru Worbench,基于CMOS工艺的特点,在Taurus Workbench环境下进行了深亚微米级N沟器件的核心参数优化,优化结果印证了新的工艺条件对器
【机 构】
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河北理工学院,山东大学信息科学与工程学院
【出 处】
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微电子学与计算机
【发表日期】
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2004年6期
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