多面体低聚硅倍半氧烷环氧化物的合成研究

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用过氧乙酸氧化三乙烯基POSS(多面体低聚硅倍半氧烷)单体制备了POSS环氧化物,通过核磁共振和傅立叶变换红外光谱分析三乙烯基POSS环氧化前后结构的变化,研究并讨论了H2O2浓度、乙酸含量、反应温度、反应时间对三乙烯基POSS环氧化反应的影响。结果表明三乙烯基POSS环氧化的适宜条件是:H2O2浓度50%(质量分数),反应温度70℃,CH3COOH与H2O2摩尔比0.5∶1,反应时间h时。
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