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摘要：在TFT-LCD行业中，彩膜工艺中的PS柱高设计，对产品的盒厚支撑起重要作用，其设计不合理，制程条件不佳，也会造成很大的良率损失，本文主要讲述，通过对PS不同制程条件和PS设计来提升改善浮游亮点不良，得出最佳的PS设计方案。
关键词：浮游亮点、Photo Spacer、段差、配向膜、曝光Gap
一、引言
随着液晶显示器行业的高速发展，大世代线（G8.5）建厂数量也在增加，使用大世代线生产小机种屏各公司也在实行中，虽然可得到很高的经济效益，但是也面临很高的良率损失；由于小机种屏都需要薄化，薄化过程中易造成很高的浮游亮点不良出现，现对此不良展开讨论并改善。
二、形成原理
当面包屏在收到外力作用下，CF侧的PS主柱（Main PS）会优先和TFT侧接触，当PS设计和PS制程制造出来的PS外形不佳时，就会较易刮伤到TFT侧PI配向层，掉落的PI屑在液晶内会形成大颗的浮游亮点。严重的时候主柱（Main PS）和辅助柱（Sub PS）对应位置都会出现不良。
三、实验
不良造成的原因主要为PS刮伤TFT侧PI配向层，而PS设计中PS Top CD是受力后最先和TFT侧接触的，我们实验将以此展开理清验证。
3.1 不同PSH柱高对浮游亮点的验证
3.2 不同PSH段差对浮游亮点的验证（PSH 3.55μm）
3.3 将PSH柱高选择为3.55μm，段差选择为0.65μm，确认产品LC-Margin满足产品需求；再结合Cell PI配向膜烘烤温度增加，经验证浮游亮点不良比例降低到26.75%
3.4 PS制程不同曝光Gap对浮游亮点的验证
3.5 将PS制程曝光Gap选择150，结果Cell PI配向膜制程参数的优化，经放量验证浮游亮点不良的比例降低到3.53%
四、结果与讨论
通过实验设计的改善，可有效改善浮游亮点不良。而通过不同PSH段差和不同曝光Gap条件，其變化还主要是对PS 外貌形状的影响，而PS Top CD当受力时，是最先和TFT侧接触的，故PS Top CD的外貌形状对浮游亮点的改善至关重要。
（1）PS 段差即为Main PS 和 Sub PS之间的间距，间距小，当受力时，使Main 和Sub PS在较短的时间里同时受力，减少不良的产生；但是段差不是越小越好，其对LC Margin和液晶的流动性有影响，要合理选择。
（2）不同曝光Gap的调整，对PS外貌影响加大。
①当曝光Gap 为200时，PS Mask与玻璃基板之间的距离较大，在此情况下，PS Top CD变尖，PS Bottom CD变大；此形态，当基板受到外力按压时，PS顶尖太尖，在侧应力的作用下，PS较易刮伤TFT侧配向膜；
②当曝光Gap为150时，PS Mask与玻璃基板之间的距离较小，在此情况下，PS Top CD顶端变的平整，在有外力按压时，PS Top CD对TFT侧配向膜的损失较小；
③将配向膜的制程参数和烘烤参数优化，提升配向膜的硬度，可减少PS对配向膜的损失。
五、结论
本文通过对PS柱高设计外貌和制程参数的研究，明确了引起不良发生的PS柱高对应因子，同时也找到了制程上对应因子的Margin范围，让我们更直接更有效寻找到改善不良的方案；为其它机种发生此类不良具有指导意义。
参考文献：
[1] 廖燕平，宋勇志，等著。薄膜晶体管液晶显示器显示原理与设计.电子工业出版社，2016.3.
[2] 马群刚，著。非主动发光平板显示技术.电子工业出版社， 2013.9.
[3] 李宏彦，杨久霞，吕艳英，等。TFT-LCD 用彩色滤光片[J].现示，2005，52（6）：41-44.
（作者单位：南京中电熊猫平板显示科技有限公司制程技术部）
关键词：浮游亮点、Photo Spacer、段差、配向膜、曝光Gap
一、引言
随着液晶显示器行业的高速发展，大世代线（G8.5）建厂数量也在增加，使用大世代线生产小机种屏各公司也在实行中，虽然可得到很高的经济效益，但是也面临很高的良率损失；由于小机种屏都需要薄化，薄化过程中易造成很高的浮游亮点不良出现，现对此不良展开讨论并改善。
二、形成原理
当面包屏在收到外力作用下，CF侧的PS主柱（Main PS）会优先和TFT侧接触，当PS设计和PS制程制造出来的PS外形不佳时，就会较易刮伤到TFT侧PI配向层，掉落的PI屑在液晶内会形成大颗的浮游亮点。严重的时候主柱（Main PS）和辅助柱（Sub PS）对应位置都会出现不良。
三、实验
不良造成的原因主要为PS刮伤TFT侧PI配向层，而PS设计中PS Top CD是受力后最先和TFT侧接触的，我们实验将以此展开理清验证。
3.1 不同PSH柱高对浮游亮点的验证
3.2 不同PSH段差对浮游亮点的验证（PSH 3.55μm）
3.3 将PSH柱高选择为3.55μm，段差选择为0.65μm，确认产品LC-Margin满足产品需求；再结合Cell PI配向膜烘烤温度增加，经验证浮游亮点不良比例降低到26.75%
3.4 PS制程不同曝光Gap对浮游亮点的验证
3.5 将PS制程曝光Gap选择150，结果Cell PI配向膜制程参数的优化，经放量验证浮游亮点不良的比例降低到3.53%
四、结果与讨论
通过实验设计的改善，可有效改善浮游亮点不良。而通过不同PSH段差和不同曝光Gap条件，其變化还主要是对PS 外貌形状的影响，而PS Top CD当受力时，是最先和TFT侧接触的，故PS Top CD的外貌形状对浮游亮点的改善至关重要。
（1）PS 段差即为Main PS 和 Sub PS之间的间距，间距小，当受力时，使Main 和Sub PS在较短的时间里同时受力，减少不良的产生；但是段差不是越小越好，其对LC Margin和液晶的流动性有影响，要合理选择。
（2）不同曝光Gap的调整，对PS外貌影响加大。
①当曝光Gap 为200时，PS Mask与玻璃基板之间的距离较大，在此情况下，PS Top CD变尖，PS Bottom CD变大；此形态，当基板受到外力按压时，PS顶尖太尖，在侧应力的作用下，PS较易刮伤TFT侧配向膜；
②当曝光Gap为150时，PS Mask与玻璃基板之间的距离较小，在此情况下，PS Top CD顶端变的平整，在有外力按压时，PS Top CD对TFT侧配向膜的损失较小；
③将配向膜的制程参数和烘烤参数优化，提升配向膜的硬度，可减少PS对配向膜的损失。
五、结论
本文通过对PS柱高设计外貌和制程参数的研究，明确了引起不良发生的PS柱高对应因子，同时也找到了制程上对应因子的Margin范围，让我们更直接更有效寻找到改善不良的方案；为其它机种发生此类不良具有指导意义。
参考文献：
[1] 廖燕平，宋勇志，等著。薄膜晶体管液晶显示器显示原理与设计.电子工业出版社，2016.3.
[2] 马群刚，著。非主动发光平板显示技术.电子工业出版社， 2013.9.
[3] 李宏彦，杨久霞，吕艳英，等。TFT-LCD 用彩色滤光片[J].现示，2005，52（6）：41-44.
（作者单位：南京中电熊猫平板显示科技有限公司制程技术部）