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等离子体浸没离子注入（PⅢ）是一种用于材料表面改性的新的离子注入技术。系统地分析和讨论了等离子体浸没离子注入技术的原理和特点：该技术直接将待处理材料浸没在等离子体中进行注入，保留了常规束线离子注入（CBⅡ）技术的主要特点，消除了常规束线离子注入所固有的视线限制，克服了保持剂量问题，使注入装置变得简单和价廉。综述了等离子体浸没离子注入技术在金属材料、半导体材料和高分子材料改性方面的应用，展示了等离子体浸没离子注入技术应用的发展前景。