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SrTiO3衬底上溅射法外延生长PLZT薄膜
SrTiO3衬底上溅射法外延生长PLZT薄膜
来源 :功能材料 | 被引量 : 0次 | 上传用户:wxa180395
【摘 要】
:
用射频磁控溅射法在SrTiO3衬底上外延生长PLZT薄膜,研究了不同的溅射工艺对薄膜生长速率的影响,探讨了不同的后期热处理条件与薄膜取向度的关系.在SrTiO3衬底上成功制备出外
【作 者】
:
仇萍荪
程文秀
何夕云
郑鑫森
丁爱丽
【机 构】
:
中国科学院上海硅酸盐研究所
【出 处】
:
功能材料
【发表日期】
:
2004年z1期
【关键词】
:
SrTiO3衬底
PLZT膜
溅射条件
外延生长
【基金项目】
:
上海市科委光科技专项行动计划项目(015261047)
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用射频磁控溅射法在SrTiO3衬底上外延生长PLZT薄膜,研究了不同的溅射工艺对薄膜生长速率的影响,探讨了不同的后期热处理条件与薄膜取向度的关系.在SrTiO3衬底上成功制备出外延生长的、厚度达1.5μm的PLZT薄膜.
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