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用射频磁控溅射法在SrTiO3衬底上外延生长PLZT薄膜,研究了不同的溅射工艺对薄膜生长速率的影响,探讨了不同的后期热处理条件与薄膜取向度的关系.在SrTiO3衬底上成功制备出外延生长的、厚度达1.5μm的PLZT薄膜.
SrTiO3衬底上溅射法外延生长PLZT薄膜
【摘 要】
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用射频磁控溅射法在SrTiO3衬底上外延生长PLZT薄膜,研究了不同的溅射工艺对薄膜生长速率的影响,探讨了不同的后期热处理条件与薄膜取向度的关系.在SrTiO3衬底上成功制备出外
【机 构】
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中国科学院上海硅酸盐研究所
【出 处】
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功能材料
【发表日期】
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2004年z1期
【基金项目】
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上海市科委光科技专项行动计划项目(015261047)
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