【摘 要】
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采用射频磁控溅射法沉积了CN薄膜, 利用XPS, XRD, FTIR等测试手段研究了CN薄膜的成分和结构.结果表明: CN薄膜为非晶结构; CN薄膜中n(N)/n(C) 随沉积室中N2浓度的增加而增大,
【机 构】
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华中科技大学塑性成型模拟及模具技术国家重点实验室
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采用射频磁控溅射法沉积了CN薄膜, 利用XPS, XRD, FTIR等测试手段研究了CN薄膜的成分和结构.结果表明: CN薄膜为非晶结构; CN薄膜中n(N)/n(C) 随沉积室中N2浓度的增加而增大, n(N)/n(C)最高可达到0.33; CN薄膜中主要含有CC, C-C, C-N, CN, C≡N等原子基团; N在CN薄膜中主要起稳定sp2 C的作用.利用椭圆偏振仪测量了CN薄膜的折射率和厚度.对薄膜的折射率与N含量之间关系的研究发现: CN薄膜的折射率随n(N)/n(C)的增加而减小; CN薄膜的
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