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用电弧离子镀方法在高速钢、不锈钢与铜基体上沉积合成TiN／TiCN多层薄膜，在其他参数不变的情况下只改变负偏压，着重考察不同负偏压下薄膜的沉积温度、膜基结合强度、显微硬度以及表面形貌等，研究基体负偏压在沉积多层薄膜中所起的作用。结果表明，负偏压影响沉积温度，负偏压值越大，温度越高；负偏压值增大，表面形貌中的大颗粒数量减少，薄膜质量得到改善；负偏压在－300V左右时，膜基结合强度与硬度出现对应最佳性能点的峰值。