活动屏蔽膜板高深宽比微细电铸技术研究

来源 :中国机械工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户：litho

【摘要】

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针对金属微结构器件制造难的问题,提出了活动屏蔽膜板高深宽比微细电铸技术,通过屏蔽膜板动态地限制电沉积的区域,可以用低深宽比的膜板图形加工出高深宽比的金属微结构,并且

【作者】

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曾永彬朱荻曲宁松胡洋洋

【机构】

：

南京航空航天大学

【出处】

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中国机械工程

【发表日期】

：

2004年期

【关键词】

：

微细加工电铸活动膜板高深宽比

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针对金属微结构器件制造难的问题,提出了活动屏蔽膜板高深宽比微细电铸技术,通过屏蔽膜板动态地限制电沉积的区域,可以用低深宽比的膜板图形加工出高深宽比的金属微结构,并且免除了去胶等难题.在对活动屏蔽膜板微细电铸电场及传质进行分析的基础上,开展试验研究,获得了特征尺寸为500μm,深宽比分别为3和5的微静电梳状驱动器梳齿及微圆柱电极阵列.

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