【摘 要】
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采用钠米级二氧化硅代替国际上惯用的三氧化二铝作磨料，解决了抛光液的悬浮问题，得到了很好地抛光表面。采用无金属离子的有机碱作络合剂及pH调制剂，使用了无金属离子的氧化剂解
【基金项目】
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天津市自然科学基金资助项目 (编号 :0 13 60 5 911)~~
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采用钠米级二氧化硅代替国际上惯用的三氧化二铝作磨料，解决了抛光液的悬浮问题，得到了很好地抛光表面。采用无金属离子的有机碱作络合剂及pH调制剂，使用了无金属离子的氧化剂解决了铜离子沾污问题和制约硅溶胶作磨料的凝胶问题，从而得到一种适用于甚大规模集成电路（ULSI）制备中铜互连线技术的化学机械抛光（CMP）的新型抛光液。
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