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研究了AZ52ME反转光刻胶的性能并选择适当的工艺可制得利于剥离的倒台面,并将其应用于射频MEMS开关的制作中剥离厚2μm的金薄膜.用扫描电镜(SEM)测出胶的侧壁为倒台面.
AZ5214E反转光刻胶的性能研究及其在剥离工艺中的应用
【摘 要】
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研究了AZ52ME反转光刻胶的性能并选择适当的工艺可制得利于剥离的倒台面,并将其应用于射频MEMS开关的制作中剥离厚2μm的金薄膜.用扫描电镜(SEM)测出胶的侧壁为倒台面.
【机 构】
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福州大学,厦门大学
【出 处】
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功能材料
【发表日期】
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2005年3期
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