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首先介绍了溅射靶材在光盘的记录层、反射层和保护层中的应用；然后介绍了光盘用靶材在纯度、晶粒和密度等方面的要求；最后通过实例介绍了熔炼和粉末冶金等光盘用靶材的制造方法，认为适当地向靶材中添加新成分已成为改善光盘薄膜性能的重要手段之一。
光记录用靶材的应用、性能要求和制造方法
【摘 要】
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首先介绍了溅射靶材在光盘的记录层、反射层和保护层中的应用；然后介绍了光盘用靶材在纯度、晶粒和密度等方面的要求；最后通过实例介绍了熔炼和粉末冶金等光盘用靶材的制造方法
【机 构】
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北京有色金属研究总院
【出 处】
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材料导报：纳米与新材料专辑
【发表日期】
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2012年2期
【基金项目】
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国家863计划项目（2012AA030315）
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