6H-SiC衬底片的表面处理

来源 :人工晶体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：zhaoleiBCB

【摘要】

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相比于蓝宝石,6H-SiC是制作GaN高功率器件更有前途的衬底.本文研究了表面处理如研磨、化学机械抛光对6H-SiC衬底表面特性的影响.用显微镜、原子力显微镜、拉曼光谱、卢瑟福背

【作者】

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陈秀芳徐现刚胡小波杨光宁丽娜王英民李娟姜守振

【机构】

：

山东大学晶体材料国家重点实验室

【出处】

：

人工晶体学报

【发表日期】

：

2004年期

【关键词】

：

6H-SiC 衬底表面处理研磨化学机械抛光 6H-SiC substrate surface treatment lapping chemi-mechan

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相比于蓝宝石,6H-SiC是制作GaN高功率器件更有前途的衬底.本文研究了表面处理如研磨、化学机械抛光对6H-SiC衬底表面特性的影响.用显微镜、原子力显微镜、拉曼光谱、卢瑟福背散射谱表征了衬底表面.结果表明经过两步化学机械抛光后提高了表面质量.经第二步化学机械抛光后的衬底具有优异的表面形貌、高透射率和极小的损伤层,其表面粗糙度RMS是0.12nm.在该衬底上用MOCVD方法长出了高质量的GaN外延膜.

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