抛光介质对镁合金化学机械抛光的影响

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利用扫描电镜、X射线光电子能谱仪和白光干涉仪研究了碱性抛光液中不同有机溶剂与无机溶剂包括乙二醇、聚乙二醇、去离子水和1%磷酸氢二钠水溶液对镁合金化学机械抛光效果的影响,测试了材料的去除率。结果表明,当采用乙二醇、聚乙二醇等有机溶剂作为抛光液的抛光介质时,能够有效改善镁合金在抛光过程中的点蚀现象,但材料去除率较低;采用去离子水作为抛光介质时,虽然材料去除率较高,但抛光后镁合金表面点蚀现象严重;采用去离子水作为抛光介质并添加1%的缓蚀剂磷酸氢二钠时,能够在保证材料去除率的同时,有效改善镁合金抛光后的表面质量,而且几乎没有点蚀出现。
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