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采用磁控直流溅射法制备出纳米WO3薄膜，在N2气中进行退火处理。采用分光光度计、XRD等对退火前后的WO3薄膜进行了光学特性的分析。研究表明：在623K进行退火处理的薄膜均匀、致密，呈现出较好的结晶态。采用光源激发对纯WO3薄膜在不同温度条件下的氢敏特性进行了研究，实验显示：WO3薄膜对H2的敏感性与温度有关，在348K温度条件下，WO3薄膜的氢敏效应最好。