【摘 要】
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本文介绍了光CVD的基本原理、设备及典型工艺条件,成膜性能和在半导体工艺中的应用.文中还讨论了光CVD的应用前景。
This paper introduces the basic principle of optical
【机 构】
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西北电讯工程学院,西北电讯工程学院
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本文介绍了光CVD的基本原理、设备及典型工艺条件,成膜性能和在半导体工艺中的应用.文中还讨论了光CVD的应用前景。
This paper introduces the basic principle of optical CVD, equipment and typical process conditions, film-forming properties and application of semiconductor technology.In this paper, the application of optical CVD is also discussed.
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