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以钽氮化物为个体层材料，利用FJL560C12型超高真空射频磁控与离子束联合溅射系统，制备以TaN和金属Ta为靶材的两种TaN单层薄膜．通过XRD和纳米力学测试系统分析它们的晶体结构和TaN靶材对薄膜机械性能的影响．结果表明，TaN靶材制备的TaN单层膜的纳米硬度值普遍高于Ta靶材的；当工作气压为0.4Pa时，TaN单层膜的硬度最大，即35．4GPa，其结晶出现多元化，使单层膜的硬度、弹性模量以及膜基结合性能均达到最佳.