共溅射法制备Cu—In合金膜及电学性能分析

来源 :新疆大学学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户：jyk7978610

【摘要】

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采用共溅射方法制备了Cu-In合金膜,并讨论了Cu-In合金膜的结构、电学性能以及溅射时间对Cu-In合金膜的结构及电学性能的影响.结果显示,Cu-In合金膜仅有单峰,多晶晶面间距不随

【作者】

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马忠权徐少辉郑毓峰简基康李冬来

【机构】

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新疆大学物理系

【出处】

：

新疆大学学报(自然科学版)

【发表日期】

：

2002年1期

【关键词】

：

共溅射法 Cu-In合金膜电学性质费-桑理论临界厚度薄膜结构溅射时间铜铟合金膜 Cosputtering CuIn alloy film mic

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采用共溅射方法制备了Cu-In合金膜,并讨论了Cu-In合金膜的结构、电学性能以及溅射时间对Cu-In合金膜的结构及电学性能的影响.结果显示,Cu-In合金膜仅有单峰,多晶晶面间距不随着膜厚的增加而改变.用费-桑理论对Cu-In合金薄膜的电学性质进行了分析,临界厚度的讨论结果表明,溅射3～4min是面电阻的转变点,而电学参数分析也给出相同的结果.

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