【摘 要】
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简述了ＵＬＳＩ工艺所用气体种类，着重介绍了常用关键的几种气体和ＵＬＳＩ对气体杂质含量及颗粒度的要求，同时给出了国内和日本平衡气体的技术指标。介绍了半导体工艺用气体的制造技术和正确测
【机 构】
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航天工业总公司西安微电子技术研究所
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简述了ＵＬＳＩ工艺所用气体种类，着重介绍了常用关键的几种气体和ＵＬＳＩ对气体杂质含量及颗粒度的要求，同时给出了国内和日本平衡气体的技术指标。介绍了半导体工艺用气体的制造技术和正确测试分析注意事项。
The types of gases used in ULSI process are briefly described. The key gases and ULSI requirements for gas impurity content and particle size are introduced emphatically. At the same time, the technical indexes of domestic and Japanese balance gas are given. The manufacturing technology of gas for semiconductor process and the precautions of correct test and analysis are introduced.
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