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本文根据惠更新-菲涅耳原理,研究了提高光刻分辨率,提高光刻套准精度和在制版困难的条件下光刻亚微米线条的几种方法;并用实验证实了结论。
光刻亚微米线条研究
【摘 要】
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本文根据惠更新-菲涅耳原理,研究了提高光刻分辨率,提高光刻套准精度和在制版困难的条件下光刻亚微米线条的几种方法;并用实验证实了结论。
【机 构】
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航空航天工业部骊山微电子公司
【出 处】
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微电子学
【发表日期】
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1991年3期
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