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采用分子印迹技术合成了对药物雷尼替丁有高度选择性的模板聚合物。通过Scatchard方程和紫外光谱分析研究了模板聚合物的结合特性。结果表明,其结合位点的解离常数为Kd=2.679×10^-3mol/L。底物的选择性结合实验表明,其模板聚合物对盐酸雷尼替丁有较大的吸附性和高度的选择性及识别能力。