【摘 要】
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一阶不连续光学元件的磁流变抛光问题是制约我国高精高效光学制造领域发展的难题之一,其涉及锥形、矩形等几何形貌元件的光学元件加工问题以及常见光学元件的边缘效应控制问
【机 构】
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遵义师范学院工学院,中国工程物理研究院机械制造工艺研究所,中国工程物理研究院超精密加工技术重点实验室
【基金项目】
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贵州省科技计划项目(黔科合LH字[2017]7081,黔科合基础[2018]1179);贵州省教育厅青年科技人才成长项目(黔教合KY字[2017]249,黔教合KY字[2018]319,黔教合KY字[2016]254);教育部重点实验室开放基金课题项目(黔教合KY字[2017]385)
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一阶不连续光学元件的磁流变抛光问题是制约我国高精高效光学制造领域发展的难题之一,其涉及锥形、矩形等几何形貌元件的光学元件加工问题以及常见光学元件的边缘效应控制问题。提出了基于一阶不连续光学元件的磁流变抛光流体动力学方法,建立了该类元件抛光区域流体动力分析的理论方法和数值手段。首先,对磁流变抛光工况下的流场进行了合理假设,其次,从微元流体动力方程出发,建立了适用于一阶不连续面形的流场分析方法,最后,基于有限差分法和数值迭代方法建立了流场控制方程的数值计算方法。通过对切入距离为1~18mm的抛光过程进行数值仿
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