利用P—MBE方法在(400)Si衬底上生长ZnO薄膜

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利用等离子体辅助分子束外延(P-MBE)方法在(400)Si衬底上生长ZnO薄膜.为改善生长后样品的质量,把样品解理成三块后,在不同温度下氧气气氛中退火.通过X射线衍射(XRD)谱和光致发光(PL)谱进行表征,讨论了用P-MBE方法在Si基上生长的ZnO的室温光致发光发光峰的可能原因.
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