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利用P—MBE方法在(400)Si衬底上生长ZnO薄膜
利用P—MBE方法在(400)Si衬底上生长ZnO薄膜
来源 :发光学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:chen1052333209
【摘 要】
:
利用等离子体辅助分子束外延(P-MBE)方法在(400)Si衬底上生长ZnO薄膜.为改善生长后样品的质量,把样品解理成三块后,在不同温度下氧气气氛中退火.通过X射线衍射(XRD)谱和光致
【作 者】
:
梁红伟
吕有明
申德振
刘益春
李炳辉
张吉英
范希武
【机 构】
:
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
【出 处】
:
发光学报
【发表日期】
:
2003年3期
【关键词】
:
P-MBE
ZNO薄膜
氧化锌薄膜
等离子体辅助分子束外延
X射线衍射
光致发光
薄膜生长
硅衬底
ZnO
plasma assisted molecular
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利用等离子体辅助分子束外延(P-MBE)方法在(400)Si衬底上生长ZnO薄膜.为改善生长后样品的质量,把样品解理成三块后,在不同温度下氧气气氛中退火.通过X射线衍射(XRD)谱和光致发光(PL)谱进行表征,讨论了用P-MBE方法在Si基上生长的ZnO的室温光致发光发光峰的可能原因.
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