【摘 要】
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<正> 大规模集成电路工艺所用的基础材料对其质量要有一定的要求。若材料中杂质含量太大,在工艺过程中由此引入的杂质会对器件产生不良影响。为了赶超世界水平,大规模集成电
【机 构】
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中国科学院半导体所,中国科学院半导体所
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<正> 大规模集成电路工艺所用的基础材料对其质量要有一定的要求。若材料中杂质含量太大,在工艺过程中由此引入的杂质会对器件产生不良影响。为了赶超世界水平,大规模集成电路工艺所用的基础材料,例如:洗涤剂、二氧化硅抛光液国内进行了试制生产。我们采用原子吸收分光光度法测定洗涤剂、二氧化硅抛光液中金属杂质,为这些产品立足国内生产赶超国外产品提供质量依据。
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