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成品率驱动下基于模型的掩模版优化算法
成品率驱动下基于模型的掩模版优化算法
来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:bai408
【摘 要】
:
提出并实现了以分段分类思想为基础的掩模版优化算法,它是一种基于模型的光学邻近效应方法.该算法具有矫正精度高、灵活性强和矫正效率较高的特点,适合于版图中关键图形的矫正.实
【作 者】
:
王旸
蔡懿慈
石蕊
洪先龙
【机 构】
:
清华大学计算机科学与技术系
【出 处】
:
半导体学报
【发表日期】
:
2004年3期
【关键词】
:
掩模
光刻
基于模型的光学邻近矫正
layout
optical lithography
model-based OPC
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提出并实现了以分段分类思想为基础的掩模版优化算法,它是一种基于模型的光学邻近效应方法.该算法具有矫正精度高、灵活性强和矫正效率较高的特点,适合于版图中关键图形的矫正.实验表明,该优化算法可以实现矫正功能并且具有很好的矫正效果.
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