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基于商用CFD计算软件模拟了氮化硅反应炉内的温度场。分析了壁面热流对温度场和产物质量浓度的影响,研究了光学厚度和散射模型对温度场的影响。计算结果表明,壁面热流决定着产物的质量浓度;光学厚度越大,辐射所起的作用越明显;散射模型不同时,对径向温度分布影响较明显,而对轴向温度分布而言,相差很小。