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利用阴极电弧法在硬质合金基体上沉积制备 TiCrN,采用不同的基板偏压或气体分压的成膜条件,制备了硬度和结晶结构不同的涂层,我们在考察了涂层硬度与成膜条件的关系的同时,采用 XRD 极点图研究了其结晶织构特性与硬度的关系,明确了提高涂层硬度的硬件支持条件,讨论了硬度提高的理论依据,认为结晶织构面的特点决定了涂层硬度的高低。