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利用高速热铁盘抛光设备对化学气相沉积（CVD，Chemical Vapor Deposition）金刚石进行抛光，分别进行温度、转速、压力以及抛光时间的实验．采用光学天平对抛光前后金刚石称重对比，采用工具显微镜和原子力显微镜对抛光后表面进行研究．结果表明：较高的抛光速度对提高表面质量以及抛光效率均比较有利．在抛光温度850℃，速度164mm／s，压力24．892N的条件下，抛光120min后，金刚石表面的粗糙度由原来的Rn=9．67μm下降到Rn=0．016μm．原子力显微镜显示，抛光表面存在少数高度在6