pnp型SiGe HBT的制备研究

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从pnp型Si/SiGe HBT的能带结构出发,阐述pnp型Si/SiGe HBT的放大原理,采用MBE方法生长Si/Si1xGex合金材料,并对Si/Si1xGex合金材料的物理特征和异质结特性进行表征,在重庆固体电子研究所工艺线上,研制出了pnp型Si/SiGe HBT器件.器件参数为:Vcbo=9V,Vce0=2.5V,Veb0=5 V,β=1 0.
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