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采用直流磁控溅射法，以P型单晶硅为基体材料，通过调整溅射时间制备出不同厚度的NdFeB薄膜。然后对不同厚度的薄膜运用相关仪器进行表征，结果表明，NdFeB薄膜厚度随着溅射时间的延长呈现近似线性增加，不同溅射时间段的沉积速率近似相同。矫顽力随着薄膜的厚度和Nd含量的增加而增加，薄膜中F的含量由84．01％降至81．65％，Nd含量由10．73％升至13．10％，B含量在5．25％～5．38％范围内浮动。