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声表面波器件制作中的干法刻蚀工艺
声表面波器件制作中的干法刻蚀工艺
来源 :压电与声光 | 被引量 : 0次 | 上传用户:xiaolaohu_521
【摘 要】
:
声表面波器件广泛应用于有线和无线通讯中.利用半导体加工工艺制作声表面波器件,由于所使用的工艺的特殊性,并不能完全按照硅工艺.该文讲述了用于法刻蚀工艺制作声表面波器件
【作 者】
:
王祥邦
李勇
陈培棣
【机 构】
:
南京电子器件研究所
【出 处】
:
压电与声光
【发表日期】
:
2005年6期
【关键词】
:
反应离子刻蚀
压电材料
叉指换能器
reaction ion etching
piezoelectric material
interdigital tra
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声表面波器件广泛应用于有线和无线通讯中.利用半导体加工工艺制作声表面波器件,由于所使用的工艺的特殊性,并不能完全按照硅工艺.该文讲述了用于法刻蚀工艺制作声表面波器件及其工艺特殊性.
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