射频磁控溅射法制备La_(0.9)Sr_(0.1)Ga_(0.8)Mg_(0.2)O_(3-δ)电解质薄膜的研究

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采用射频磁控溅射法成功地在多孔La0.7Sr0.3Cr0.5Mn0.5O3-δ(LSCM7355)阳极基底上制备了致密的LSGM电解质薄膜层。研究结果表明,当溅射功率为210W、基底温度为300℃、溅射气氛氩气压强为5Pa、溅射时间为12h,得到表观形貌较好、厚度约为10μm的LSGM电解质薄膜。在1000℃空气气氛中退火2h后,电解质薄膜物相结构符合多晶态钙钛矿型结构。
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