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物理气相沉积 (PVD) Ti N涂层已获广泛应用。为克服单一 Ti N涂层的缺陷及进一步改善 Ti N涂层的性能 ,近年来致力于复合涂层的研究。本文综述了 Ti N+ Ti、Ti N+化学镀 Ni-P、Ti N+氮化等复合涂层的工艺、组织和性能之间的关系 ,并探讨了过渡层的作用。
物理气相沉积TiN复合涂层研究进展
【摘 要】
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物理气相沉积 (PVD) Ti N涂层已获广泛应用。为克服单一 Ti N涂层的缺陷及进一步改善 Ti N涂层的性能 ,近年来致力于复合涂层的研究。本文综述了 Ti N+ Ti、Ti N+化学镀 Ni-P
【机 构】
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浙江大学材料工程系!杭州,310027 华中理工大学模具技术国家重点实验室,武汉,430074,浙江大学材料工程系!杭州,310027,华中理工大学模具技术国家重点实验室!武汉,430074
【出 处】
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材料科学与工程
【发表日期】
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2000年02期
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