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本文主要介绍了物理气相沉积法(磁控溅射法和多弧离子镀法)制备Ti N薄膜的工艺,分析了不同工艺参数对性能的影响,列举了在切削工具、机械加工、航空、医学以及微电子领域的应用,最后对Ti N薄膜的发展趋势进行了展望。
物理气相沉积法制备TiN薄膜的性能及应用研究
【摘 要】
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本文主要介绍了物理气相沉积法(磁控溅射法和多弧离子镀法)制备Ti N薄膜的工艺,分析了不同工艺参数对性能的影响,列举了在切削工具、机械加工、航空、医学以及微电子领域的应
【机 构】
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装甲兵工程学院装备维修与再制造工程系
【出 处】
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世界有色金属
【发表日期】
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2016年9期
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