硅在KOH中各向异性腐蚀的物理模型

来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:JGTM2000
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针对硅在KOH中的各向异性腐蚀提出了一个新的物理模型。此模型从微观角度出发,根据实际的腐蚀化学反应过程确定了若干微观状态,提出了反映腐蚀特性的若干微观参数。将腐蚀温度、浓度等对腐蚀速度的影响也反映了进去。计算结果与实验结果进行了对比,表明此模型在解释硅在KOH中各向异性腐蚀特性等方面具有一定的合理性。
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