分子束外延ZnS_(1-x)Te_x单晶薄膜特性分析

来源 :半导体光电 | 被引量 : 0次 | 上传用户:liuliushuang
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通过精确的测量发现,分子束外延( M B E) 生长的Ⅱ- Ⅵ族三元合金碲硫锌( Zn S1 - x Te x)(0 ≤x ≤1) 半导体单晶薄膜中 Zn 和 Te 修正的俄歇参数α′随 x 增大近似线性增加,且前者大于后者;同时还发现 Te 4d3/2 和 Te 4d5/2 光电子谱峰间距随 x 的变化也有类似的规律 Through accurate measurements, it has been found that the Zn and Te in the monocrystalline ZnS - xTe x (0 ≤ x ≤ 1) semiconductor single crystal grown by molecular beam epitaxy (M B E) The Auger parameter α ’increases approximately linearly with the increase of x, and the former is larger than the latter. At the same time, it is also found that there is a similar rule that the distance between the peaks of Te 4d3 / 2 and Te 4d5 / 2 varies with x
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